그래핀랩은 최근 주요 협력사와 반도체용 펠리클 공동개발협력(JDA) 계약을 체결, 상용화를 위한 본격적인 행보에 나선다고 30일 밝혔다.

그래핀랩은 극자외선(EUV)용 펠리클을 개발하는 회사다. 반도체 노광 공정에 핵심인 포토마스크를 보호하는 제품으로, 고가에다 기술 개발 난도가 높다. 그래핀랩은 그래핀 소재로 펠리클을 개발하고 있다. 최근 제품 성능 척도가 되는 투과율 90% 이상을 확보했다.

이번 JDA는 지난해 12월 공급된 협력사 공동 평가 샘플을 기반으로 성사됐다. 공정 적합성 검증을 통과, 본격적인 상용화를 위한 공동 개발 단계에 진입했다.

반도체용 펠리클 기술에 대한 기초 검증을 완료하고, 양산 적용을 위한 공정 안정성 및 생산성 확보를 중심으로 기술 고도화를 추진한다. 그래핀 초박막 특성, 높은 투과율, 우수한 내열·내구성, 반도체 공정 호환성 등 핵심 요구사항을 충족하는 것이 목표다.

회사는 이번 검증 결과를 바탕으로 그래핀 펠리클의 양산 가능성을 확인했다며, 고객사와 공동 개발로 상용화 시점을 구체화할 예정이라고 덧붙였다.

또 그래핀랩은 주주배정 유상증자로 자금을 확보, 단기 유동성 리스크를 해소하고 안정적인 운영 기반을 마련했다고 부연했다. 조달 자금은 △핵심 연구개발 지속 △파일럿 및 양산 전환 인프라 구축 △글로벌 사업 확대에 전략적으로 활용될 예정이다.

회사는 비용 구조 개선과 조직 효율화를 통해 고정비 부담을 낮추고 수익성 개선을 추진 중이다. 자금 집행의 투명성을 강화하기 위한 내부 통제 체계를 고도화하고 투자자 커뮤니케이션도 확대할 계획이다.

회사는 최근 중국 시장 공략도 본격화하고 있다. 그래핀 응용 산업 상업화가 빠르게 진행되고 있는 중국 시장을 겨냥해 현지 법인 설립을 완료했다. 시생산 라인 구축을 단계적으로 추진하고 있다.

권동준 기자

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