아스플로 ‘가스 공급 부품’, 글로벌 반도체 제조사 뚫었다
||2026.04.15
반도체 공장과 장비에 활용되는 가스 공급 부품 제조 회사 아스플로가 해외 고객 저변을 확대했다. 기존 삼성전자·SK하이닉스 중심에서 글로벌 반도체기업까지 고객을 추가 확보하는 데 성공했다. 미국과 일본이 주도했던 반도체 가스 공급 부품 시장에서 국산 제품이 성과를 내 주목된다.
업계에 따르면, 아스플로는 최근 글로벌 종합반도체기업(IDM) I사와 M사 두 곳의 부품 공급 협력사(서플라이어)로 정식 등록됐다.
I사에는 샘플을 공급해 평가를 마쳤고, 이르면 2분기 경 본격적인 제품 공급에 나설 예정이다. M사는 제품 테스트 중으로 3분기 공급을 목표로 협의를 진행하고 있다.
아스플로는 2001년 설립된 반도체 공정용 가스 부품 회사다. 반도체에는 수많은 가스가 사용되는데 이를 원활하게 공급하기 위한 부품이 주력이다. 보통 반도체 공장(팹) 외부의 가스 공급 시설에서 팹 내부 공정 장비까지 공급하는 시공 부품, 실제 공정에서 활용하기 위한 장비 부품으로 구분된다.
역할에 따라 튜브, 파이프, 피팅, 밸브, 레귤레이터, 필터, 디퓨저 등이 대표 부품으로 꼽힌다. 미국 발렉스와 스웨즈락, 일본 후지킨 등 외산 제품이 시장을 주도하고 있다.
아스플로는 고정밀 및 고청정 기술력과 다양한 제품 포트폴리오를 앞세워 삼성전자와 SK하이닉스 팹과 글로벌 반도체 장비사에 가스 부품을 공급하고 있다. 경쟁사 대비 보다 많은 제품을 고객 요구에 맞춰 제조할 수 있는 것이 강점이다.
대만 등 해외 공급 사례도 있었지만 글로벌 IDM 기업에 직접 공급할 수 있는 지위를 획득한 건 이번이 처음이다. 신규 고객사는 아스플로의 극청정 표면처리 기술, 설계 디자인, 나노 입자 여과 기술, 청정 용접 기술력을 높이 산 것으로 평가된다.
반도체 공정 가스는 수나노미터(㎚) 크기의 입자가 오염 없이 공급돼야 하는 만큼 부품의 높은 정밀도와 청정도 확보가 필수다. 아스플로는 독자 설계 방법과 제조 역량으로 가스 공급 부품에 불순물 없는 깨끗한 표면을 구현했다. 또 미세한 이물도 걸러내는 여과 장치와 매끈한 부품 접합도 가능하다.
아스플로는 향후 반도체 팹용 시공 부품 외 반도체 장비용 부품 공급도 확대할 방침이다. 한번 공급되면 잘 바꾸지 않는 시공 부품뿐만 아니라 교체가 잦은 장비용 부품으로 사업 영역을 넓혀 수익성을 극대화할 방침이다.
아스플로 관계자는 “사실상 주요 글로벌 반도체 기업 모두에 가스 공급 부품을 납품할 수 있게 됐다”며 “글로벌 반도체 장비사와도 부품 공급을 협의하고 있어 사업 성과를 극대화할 수 있을 것”이라고 밝혔다.
권동준 기자
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